Friedrich-Schiller-Universität Jena - Anschaffung chemisch-mechanische Poliermaschine

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt die Anschaffung einer neuen chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für die Bearbeitung von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Die Maschine muss für Wafer mit Durchmessern von bis zu 100 mm geeignet sein und eine RMS-Rauigkeit von unter 1 Nanometer erreichen können. Die Lieferung, Aufstellung, Installation und Inbetriebnahme erfolgt frei Verwendungsstelle am Institut für Festkörperphysik in Jena. Die Gewährleistung beträgt mindestens 12 Monate, und Ersatzteile müssen für mindestens fünf Jahre verfügbar sein.