Fraunhofer-Gesellschaft, Freiburg - Sekundärionen-Massenspektrometer (SIMS)

Beschaffung eines hochempfindlichen Sekundärionen-Massenspektrometers (SIMS) für die chemische Tiefenprofilanalyse von Halbleitermaterialien und -strukturen. Das System soll eine hohe Tiefenauflösung und hohe Massenauflösung bieten und die präzise Dotierungs- und Verunreinigungsprofilierung sowie die genaue Bestimmung von Schichtdicken und Homogenität ermöglichen. Fokus liegt auf der Charakterisierung von III-V- und diamantbasierten Bauelementstrukturen sowie Epitaxieschichten auf 150 mm Substraten zur Unterstützung der Prozessentwicklung, Qualitätskontrolle und Optimierung am Fraunhofer IAF.