Jena, Leibniz-Institut für Photonische Technologien - Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD)

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. in Jena schreibt eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für die Dünnschichtabscheidung aus. Die Anlage soll für Substrate vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer geeignet sein und reproduzierbare Abscheideprozesse für leitfähige, halbleitende und dielektrische Schichten ermöglichen, auch als Multilagen ohne Vakuumunterbrechung. Ein Steuer-PC mit aktueller Software ist ebenfalls Teil des Auftrags. Das maximale Budget beträgt 549.000 Euro brutto. Die Lieferung soll bis Juni 2027 erfolgen.