Jena, Leibniz-Institut für Photonische Technologien - Maskless Aligner für Photolithographie

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. in Jena beschafft einen Maskless Aligner für die Photolithographie. Das Gerät dient zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf Substraten bis 150 mm Wafer. Gefordert sind Strukturauflösungen bis 600 nm Linienbreite, eine Mehrebenen-Justage mit bis zu 250 nm Überdeckungsgenauigkeit und Schreibgeschwindigkeiten für mind. 1000 Wafer/Jahr. Das Budget beträgt 457.300,00 EUR netto.