Fraunhofer-Gesellschaft, Chemnitz - Ion Mill chamber with PVD chambers (ENAS-01.1)

Beschaffung einer Ion Mill chamber mit zentralem Handlingsystem und 2 PVD-Kammern (ENAS-01.1) für die Fraunhofer-Gesellschaft in Chemnitz. Die Anlage muss 200 mm Wafer bearbeiten und für die Strukturierung von magnetischen Multischichtstapeln (GMR, TMR) geeignet sein. Die Ionenstrahlätzkammer erfordert ein Optisches Emissionsspektrometer (OES) zur Endpunkterkennung. Die PVD-Kammer dient der Abscheidung von SiN-Passivierungsschichten und Elektrodensystemen aus Edelmetallen.