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Archiv: Frist abgelaufen am 13.07.2026

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Abgeschlossen

München, TU - Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage für Forschungsarbeiten

Auftraggeber:
Technische Universität München
Region:
Garching, DEU
Veröffentlicht:
09.06.2026
Angebotsfrist
13.07.2026Abgelaufen

Zeitplan

  1. Bekanntmachung
  2. Angebotsfrist

Zuschlag

Auftragnehmer
CENTRO ESPECIAL TUTUELAR, S.L.
Auftragswert

Beschreibung

Beschaffung einer schlüsselfertigen Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage für Forschungsarbeiten am ZEITlab der TU München. Die Anlage muss für thermische ALD, PE-ALD und ALD für hohe Aspektverhältnisse geeignet sein und über ein integriertes Ellipsometer verfügen. Sie muss mit einer bestehenden Veeco-Fiji-Gen2-Anlage kompatibel sein. Maximale Abmessungen: 2000x1000x2000 mm. CE-Konformität und TÜV-Prüfung erforderlich. Max. Gesamtkosten: 577.000 EUR inkl. MwSt.

Lose (1)

  • Los LOT-0001

    Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Klassifizierung

CPV-Codes
31712100Elektrische Maschinen
NUTS-Codes
DE21H

Details

Angebotsfrist
13.07.2026
Referenznummer
038/2026
Plattform
Bund, TED

Kontaktinformationen

Telefon
+49 8921762411
Adresse
Technische Universität MünchenArcisstraße 2180333 MünchenDEU

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