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Archiv: Frist abgelaufen am 19.03.2026

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Abgeschlossen

Garching - Reaktives Magnetron Co-Sputtersystem für Dünnfilme

Auftraggeber:
Technische Universität München
Region:
Garching, DEU
Veröffentlicht:
16.02.2026
Angebotsfrist
19.03.2026Abgelaufen

Zeitplan

  1. Bekanntmachung
  2. Angebotsfrist

Beschreibung

Beschaffung eines reaktiven Magnetron Co-Sputtersystems zur Synthese von Oxid-, Oxinitrid- und Nitrid-Dünnfilmen mit kontrollierten Zusammensetzungen. Das System muss eine Sputterkammer, Magnetron-Sputterquellen, Pumpensystem, Powergeneratoren, eine automatische Wafer-Transfer-Schleuse, Dünnschichtmonitor, pneumatische Shutter, Gasdosiersystem, Computersteuerung und Software umfassen. Die Lieferung beinhaltet die Installation und Schulung.

Lose (1)

  • Los LOT-0001

    Reaktives Magnetron Co-Sputtersystem

Klassifizierung

CPV-Codes
38000000Labor- & Messgeräte
NUTS-Codes
DE21H

Details

Angebotsfrist
19.03.2026
Referenznummer
040/2025
Plattform
Bund, TED

Kontaktinformationen

Adresse
Technische Universität MünchenArcisstraße 2180333 MünchenDEU

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