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Garching - Reaktives Magnetron Co-Sputtersystem für Dünnfilme

Abgeschlossen
Technische Universität München
Garching, DEU
Veröffentlicht: 16.02.2026

Diese Ausschreibung ist beendet

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Zeitplan

Bekanntmachung16.02.26
Angebotsfrist19.03.26

Beschreibung

Beschaffung eines reaktiven Magnetron Co-Sputtersystems zur Synthese von Oxid-, Oxinitrid- und Nitrid-Dünnfilmen mit kontrollierten Zusammensetzungen. Das System muss eine Sputterkammer, Magnetron-Sputterquellen, Pumpensystem, Powergeneratoren, eine automatische Wafer-Transfer-Schleuse, Dünnschichtmonitor, pneumatische Shutter, Gasdosiersystem, Computersteuerung und Software umfassen. Die Lieferung beinhaltet die Installation und Schulung.

Lose (1)

Los 040/2025

Reaktives Magnetron Co-Sputtersystem

Klassifizierung

CPV-Codes

38000000Labor- & Messgeräte

NUTS-Codes

DE21H

Details

Angebotsfrist
19.03.2026
Referenznummer
040/2025
Plattform
Bund, TED

Kontaktinformationen

Adresse
Technische Universität MünchenSchragenhofstraße 3180992 MünchenDEU

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