Friedrich-Schiller-Universität Jena - Beschaffung einer Hotplate für Elektronenstrahllithografie
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Zeitplan
Beschreibung
Beschaffung einer halbautomatischen Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-Bake chemisch verstärkter Resists. Zu prozessierende Substrate umfassen 300mm-Wafer sowie Glas-Substrate bis 300mm x 275mm x 15mm. Die genauen technischen Anforderungen sind der Anlage 2 zu entnehmen.
Lose (1)
Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Klassifizierung
CPV-Codes
NUTS-Codes
Details
- Angebotsfrist
- 19.05.2026
- Referenznummer
- EU-OV/2026-28
- Plattform
- Bund, TED
- Quelle
- Originalquelle
Kontaktinformationen
- Adresse
- Friedrich-Schiller-Universität JenaFürstengraben 107743 JenaDEU
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