Freiburg, Fraunhofer-Gesellschaft - ALD-Anlage für Metalloxidschichten

Beschaffung einer ALD-Anlage (Atomlagenabscheidung) für die Abscheidung von Metalloxidschichten, insbesondere SnOx und Al2O3, auf großformatigen Siliciumwafern (bis 210 mm x 210 mm, M12-Format) für Perowskit/Silizium-Tandemsolarzellen im Rahmen des Pero-Si-Scale Projektes. Die Anlage muss für eine einseitige Abscheidung ausgelegt sein und die Probenhandhabung in einer Glovebox ermöglichen. Gefordert ist ein Durchsatz von mindestens 6 M12-Wafern pro Stunde für 20 nm dicke SnOx-Schichten bei 80 °C. Thermische ALD-Abscheidung mit Wasserdampf ist erforderlich. Die Anlage wird in einem F&E-Umfeld eingesetzt und benötigt Flexibilität bei industrierelevanter Ausstattung und Beschichtungsfläche.