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Fraunhofer-Gesellschaft, München - ICP-RIE Plasma Etch System

Abgeschlossen
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
EMFT Hansastraße 27d 80686 München, DEU
Veröffentlicht: 12.02.2023

Diese Ausschreibung ist beendet

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Zeitplan

Bekanntmachung12.02.23
Angebotsfrist10.03.23

Beschreibung

Beschaffung eines ICP-RIE Plasma Etch Systems für das Fraunhofer EMFT in München. Das System dient zur Plasmaätzung von Halbleitermaterialien. Detaillierte technische Spezifikationen sind den Vergabeunterlagen zu entnehmen.

Lose (1)

Los 1

ICP-RIE plasma etch system

Klassifizierung

CPV-Codes

42990000Industriemaschinen

NUTS-Codes

DE2

Details

Angebotsfrist
10.03.2023
Plattform
Bund

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