Druckluftanlagen für den Neubau eines Biophotonik-Gebäudes - Jena
- Auftraggeber:
- Leibniz-lnstitut für Photonische Technologien e. V
- Region:
- Jena, DEU
Archiv: Frist abgelaufen am 15.07.2026
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Abgeschlossen
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt ein vollautomatisches Plasmaätzsystem für Wafer mit 300 mm Durchmesser aus. Das System ist für die Bearbeitung von Silizium-CMOS-Wafern in Reinraumklasse 1000 bestimmt und dient zur Strukturierung von Silizium und verwandten Materialien mit hohem Aspektverhältnis. Optionale Positionen sind gemäß technischer Spezifikation möglich.
System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P
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