Fraunhofer-Gesellschaft Dresden - Plasmaätzsystem für Wafer
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Zeitplan
Beschreibung
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt ein vollautomatisches Plasmaätzsystem für Wafer mit 300 mm Durchmesser aus. Das System ist für die Bearbeitung von Silizium-CMOS-Wafern in Reinraumklasse 1000 bestimmt und dient zur Strukturierung von Silizium und verwandten Materialien mit hohem Aspektverhältnis. Optionale Positionen sind gemäß technischer Spezifikation möglich.
Lose (1)
System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P
Klassifizierung
CPV-Codes
NUTS-Codes
Details
- Angebotsfrist
- Nicht verfügbar
- Referenznummer
- PR1153448-2480-P
- Plattform
- Bund, TED
- Quelle
- Originalquelle
Kontaktinformationen
- Telefon
- +49 00000000
- Adresse
- Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12Hansastraße 27c80686 MünchenDEU
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