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Fraunhofer ENAS Chemnitz - Pads für Mirra Anlage (Oxid Polieren)

28 Tage verbleibend
Fraunhofer ENAS
09126 Chemnitz, DEU
Veröffentlicht: 01.09.2026

Zeitplan

Bekanntmachung01.09.26
HeuteHeute04.09.26
Angebotsfrist02.10.26

Beschreibung

Lieferung von 12 Pads für die chemisch-mechanische Polieranlage (CMP) MIRRA im CMP Labor des Fraunhofer ENAS in Chemnitz. Die Pads sind für das Polieren von 8-Zoll-Wafern (Oxid Polieren) bestimmt und müssen mit der MIRRA-Anlage kompatibel sein, inklusive eines integrierten optischen Fensters für die Endpunkterkennung.

Lose (1)

Los 1

Pads für Mirra

Klassifizierung

NUTS-Codes

DED

Details

Angebotsfrist
02.10.2026
Plattform
Bund

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