Frankfurt (Oder), IHP GmbH - Upgrade eines 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber auf WxZ Sprint Konfiguration

Die IHP GmbH in Frankfurt (Oder) schreibt das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems (Hersteller: Applied Materials Inc., AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration aus. Dies beinhaltet Anpassungen am Gasverteilungssystem für gepulste Wolfram-Abscheidungsprozesse und die Integration zusätzlicher Hardware für Depositionsdrücke bis 300 Torr. Die Leistung umfasst Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung von Hard- und Software. Das Projekt ist Teil der EU-Initiative "APECS pilot line".