ETH Zürich - Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage (ICP3)

Beschaffung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP3) für die ETH Zürich. Die Anlage muss ein Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, Prozessdruck bis 100 mtorr, Gasflüsse bis 500 sccm, kW-Bereich RF/ICP-Generatoren mit Autotuning, Plasma-Spektroskopie, automatische Ladeschleuse für schnelle Beladung, Probengrößen ab 4 Zoll Durchmesser und Probentemperaturregelung von 10 bis 300 °C umfassen. Die Beschaffungsreife und Kreditverfügbarkeit bleiben vorbehalten.