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Beschaffung eines UHV-Clusters für gepulste Laserabscheidung und Sputtern (PLD-SP-CL) zur Synthese epitaktischer Heterostrukturen mit Monolagen-Präzision auf Oxid-Substraten (bis 10 x 10 mm²). Die PLD- und Sputterkammern benötigen Basisdrücke < 10⁻⁷ mbar und eine Schleusenkammer für schnellen Probenaustausch. Die Kammern müssen vakuumverbunden sein. Die PLD erfordert in-situ RHEED und Substrattemperaturen bis 950°C, die Sputteranlage DC-Magnetron-Sputtern bis 700°C. Kompatibilität mit Flag-Style-Probenträgern und externem Vakuumkoffer ist erforderlich.
UHV cluster for Pulsed Laser Deposition and Sputtering of epitaxial quantum materials (PLD-SP-CL)
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