Fraunhofer-Gesellschaft, Berlin - Incoming Wafer Cleaner (IZM-26)

Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt einen "Incoming Wafer Cleaner" für das IZM in Berlin aus. Die Anlage dient zur Reinigung von mikroelektronischen Bauelementen und Gehäusetechnologie, um Substrate von Partikeln und Verunreinigungen zu befreien. Sie muss sowohl automatische als auch halbautomatische Handhabung von Trägern und einzelnen Substraten ermöglichen. Die Reinigung kann mit DI-Hochdruckwasser oder anderen Chemikalien erfolgen, mechanisch unterstützte Methoden sind ebenfalls möglich. Die Option zur Durchführung von Piranha- und Ätzverfahren sowie eine SECS/GEM-Schnittstelle sind gefordert.