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Archiv: Frist abgelaufen am 16.09.2026
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Abgeschlossen
Fraunhofer ENAS Chemnitz - Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken
- Auftraggeber:
- Fraunhofer ENAS
- Region:
- 09126 Chemnitz, DEU
- Veröffentlicht:
- 27.08.2026
- Angebotsfrist
- 16.09.2026Abgelaufen
Zeitplan
- Bekanntmachung
- Angebotsfrist
Beschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken (6", 7", 9") zur Installation in einem Reinraum (ISO 4) am Fraunhofer ENAS in Chemnitz. Das System muss den Austausch von Chucks ermöglichen und ausschließlich mit DI-Wasser betrieben werden. Die Lieferung beinhaltet Schulung, Abnahmetest und technische Dokumentation.
Lose (1)
- Los LOT-0000
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Klassifizierung
- NUTS-Codes
- DED
Details
- Angebotsfrist
- 16.09.2026
- Plattform
- Bund
- Quelle
- Originalquelle
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