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Fraunhofer ENAS Chemnitz - Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Abgeschlossen
Fraunhofer ENAS
09126 Chemnitz, DEU
Veröffentlicht: 27.08.2026

Diese Ausschreibung ist beendet

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Zeitplan

Bekanntmachung27.08.26
Angebotsfrist16.09.26

Beschreibung

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken (6", 7", 9") zur Installation in einem Reinraum (ISO 4) am Fraunhofer ENAS in Chemnitz. Das System muss den Austausch von Chucks ermöglichen und ausschließlich mit DI-Wasser betrieben werden. Die Lieferung beinhaltet Schulung, Abnahmetest und technische Dokumentation.

Lose (1)

Los 1

teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken

Klassifizierung

NUTS-Codes

DED

Details

Angebotsfrist
16.09.2026
Plattform
Bund

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