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Fraunhofer ENAS Chemnitz - Herstellung von Bonddruckplatten aus Siliziumnitrid

12 Tage verbleibend
Fraunhofer ENAS
09126 Chemnitz, DEU
Veröffentlicht: 28.09.2026

Zeitplan

Bekanntmachung28.09.26
HeuteHeute02.10.26
Angebotsfrist14.10.26

Beschreibung

Herstellung von zwei identischen Bonddruckplatten aus Siliziumnitrid (SiN) nach Kundenvorgaben für den Einsatz als Prozesswerkzeug in einer Waferbondanlage. Die Platten müssen hohen Temperaturen und Kräften standhalten und eine hohe Oberflächengüte aufweisen. Die Fertigung erfolgt nach STEP-Datei "LV_Bondplatte_8inch_TKB_Anlage A.STEP".

Lose (1)

Los 1

Einlage & Druckplatte (Bondchuck SiN 8zoll)

Klassifizierung

NUTS-Codes

DED

Details

Angebotsfrist
14.10.2026
Plattform
Bund

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