ETH Zürich - Integrierter UHV-Cluster für PLD und Sputterdeposition

Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten für die ETH Zürich. Das System ermöglicht Materialsynthese auf Oxidsubstraten (bis 10x10 mm²) und besteht aus PLD-, Sputter-, Transfer- und Schleusenkammer mit Basisdrücken unter 1 x 10-7 mbar. Die PLD-Kammer ist für epitaktisches Oxidwachstum bis 1100 °C mit KrF-Laser und RHEED ausgestattet. Die Sputterkammer unterstützt DC/RF-Magnetronsputtern bis 700 °C Substratheizung. UHV-kompatible Ports für Erweiterungen sind vorgesehen.