Darmstadt, GSI - Entwicklung und Fertigung von SiC Gap-Schaltern
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Zeitplan
Beschreibung
Rahmenvertrag für die Entwicklung und Fertigung von schnellen Halbleiter-Gapschaltern auf Basis von Siliziumcarbid-Technologie (SiC). Diese dienen dem Kurzschließen von Hochfrequenzkavitäten in Synchrotron- und Speicherringen für die Impedanzreduktion. Der Auftrag umfasst die Erstellung von Berichten (Conceptual Design Report, Final Design Report), die Fertigung von Prototypen, First-of-Series und Serienmodellen sowie die dazugehörige Hardware, Software/Firmware und Dokumentation. Eine Einbauerklärung bzw. Konformitätserklärung ist ebenfalls zu erstellen. Die Schalter werden im Dauerbetrieb im Beschleunigertunnel eingesetzt und müssen hohen Spannungen, Strömen und Strahlenexposition standhalten.
Lose (1)
Rahmenvertrag SiC Gap-Schalter
Klassifizierung
CPV-Codes
NUTS-Codes
Details
- Angebotsfrist
- Nicht verfügbar
- Referenznummer
- 27/RV_SiC_Gapschalter_2025
- Plattform
- Bund, TED
- Quelle
- Originalquelle
Kontaktinformationen
- Telefon
- +49228996100
- Adresse
- GSI Helmholtzzentrum für Schwerionenforschung GmbHPlanckstraße 164291 DarmstadtDEU
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